3:層構成
各レイヤー写真のVia状況と、断面写真から基板の製造工程が見えてくる。
8層基板
製造工程としては、
1)L2−L3、L4−L5、L6−L7 のパターン形成した両面基板の制作
(それぞれは、穴のあいてない、パターンのみの両面基板3枚)
2)上記の両面基板と、L1とL8の外層基板をプレスで積層
3)貫通穴の加工、無電解メッキ、電解メッキにて、スルホールを形成
4)外層のパターンをエッチングにて形成
5)レジスト、シルク、外形加工を行う
比較的標準的な製法の基板であることがわかります。
6層インナーVia、ビルドアップ基板
内層の4層基板は、銅ペーストにより穴埋めがされており、
その後外層をビルドアップ製法で作成。
外層のビルドアップVia拡大写真。
関連ページ
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- 取り外した部品は、小袋に入れて保管します。 これは、後から見直す場合にも便利です。
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- 半導体は、捺印ごとに、Vf、Vz、PNP、NPN、Hfe、Nch、Pch等を測定しています。 その後、パッケージ概要と捺印から品番を探していきます。
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- 半導体は、捺印ごとに、Vf、Vz、PNP、NPN、Hfe、Nch、Pch等を測定しています。これらの検査結果からシンボル化した回路図を作成しています。